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IBE离子束刻蚀
薄膜图形化刻蚀
产品分类
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IBE离子束刻蚀

质量薄膜高 ——超低污染

产量高，紧凑的系统体积设计­ ——运行成本低

高速衬底架（高达1000RPM）设计，并配备了准确终点监测 （SIMS）

应用范围：

磁阻式随机存取存储器（MRAM）
介电薄膜
III-V族光电子材料刻蚀
自旋电子学
金属电极和轨道
超导体
激光端面镀膜
高反射（HR）膜
防反射（AR）膜
环形激光陀螺反射镜
X射线光学系统
红外（IR）传感器
II-VI族材料
通信滤波器
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    MEMS先进代工

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